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簡(jiǎn)要描述：美國(guó) Nonsequitur 低能量離子槍 真空 1402唐：I582I984229
產(chǎn)品型號(hào)：Model 1402廠商性質(zhì)：代理商更新時(shí)間：2024-10-12訪 問(wèn) 量：129
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詳細(xì)介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子,航天,電氣,綜合 |
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美國(guó) Nonsequitur 低能量離子槍 真空 1402
美國(guó) Nonsequitur 低能量離子槍 真空 1402
Nonsequitur 技術(shù)公司的 1402 型離子槍以極低的束流能量產(chǎn)生高束流為特點(diǎn)。它還可以在高束流能量（高達(dá) 5keV）下運(yùn)行，以提供額外的深度剖析和樣品清潔能力?？赡艿膽?yīng)用包括電荷補(bǔ)償、離子散射和離子/固體相互作用研究。
參數(shù)信息
工作距離 20 毫米
光束能量 10eV 至 5keV 連續(xù)可變
光柵尺寸 7 x 7 毫米（最小值）
安裝法蘭 70 毫米（2.75 英寸）外徑 CF
差分泵 70 毫米（2.75 英寸）外徑 CF
供氣入口 34 毫米（1.33 英寸）外徑 CF
源氣體 He、Ne、Ar、Kr、Xe
烘烤溫度 最高 100 °C
Duoplasmatron Duoplasmatron Equavalent Ion Guns Model 1402 Model 1403 TOF/SIMS Model 1403Cs - Cesium/Alkali Ions Model 1404 Model 1407 Model 1420 Model 1450 Nonsequitur SIMS 二次離子質(zhì)譜 雙等離子發(fā)射器 真空測(cè)試 真空系統(tǒng) 真空腔 真空表面化學(xué)實(shí)驗(yàn) 離子槍 離子源 聚焦離子源 表面分析儀器
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