美國(guó)kimball physics ELG-2電子槍系統(tǒng)

簡(jiǎn)要描述：美國(guó)kimball physics ELG-2電子槍系統(tǒng)
噴槍可聚焦小光斑，用于 X 射線生產(chǎn)、焊接和 RHEED 等應(yīng)用；或用于泛光束，用于電荷中和、電子束洗滌、空間模擬和輻射損傷研究。

產(chǎn)品型號(hào)：EGPS-1022
廠商性質(zhì)：代理商
更新時(shí)間：2024-09-10
訪問(wèn) 量：153

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美國(guó)kimball physics ELG-2電子槍系統(tǒng)

噴槍可聚焦小光斑，用于 X 射線生產(chǎn)、焊接和 RHEED 等應(yīng)用；或用于泛光束，用于電荷中和、電子束洗滌、空間模擬和輻射損傷研究。

ELG-2 / EGPS-1022

能量范圍： 1 eV 至 2k eV
光束電流： 1 nA 至 10 µA
光斑尺寸： 0.5 mm 至 5 mm
安裝： 2?CF，可拆卸選項(xiàng)
特性/選項(xiàng)：用于能量掃描、偏轉(zhuǎn)、光柵化、高速脈沖的變焦鏡頭聚焦

美國(guó)kimball physics ELG-2電子槍系統(tǒng)

Kimball Physics 電子槍，其設(shè)計(jì)用于各種超高真空 (UHV) 表面物理、空間物理和處理應(yīng)用。噴槍可聚焦小光斑，用于 X 射線生產(chǎn)、焊接和 RHEED 等應(yīng)用；或用于泛光束，用于電荷中和、電子束洗滌、空間模擬和輻射損傷研究。

操作范圍：

● 能量范圍：1 eV 至 100 keV
● 射束電流范圍：1 nA 至 20 mA
● 光斑尺寸范圍：15 μm（聚焦柱）至 500+ mm（泛光光束）

優(yōu)勢(shì)：

● 客戶可更換的點(diǎn)火裝置
● 操作期間的機(jī)械對(duì)準(zhǔn)
● 可存儲(chǔ)的控制設(shè)置
● 電腦遙控/計(jì)量

性能：

● 光束電流穩(wěn)定性：反饋穩(wěn)定的發(fā)射電流控制；優(yōu)于每小時(shí) ± 0.1%
● 能量穩(wěn)定性：每小時(shí) ± 0.01%，滿輸出時(shí)每 8 小時(shí) ± 0.02%，以最大限度地減少色差

應(yīng)用：

● 快速脈沖/光束消隱
● 偏轉(zhuǎn)/光柵
● 槍式法拉第杯

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美國(guó)kimball physics ELG-2電子槍系統(tǒng)

噴槍可聚焦小光斑，用于 X 射線生產(chǎn)、焊接和 RHEED 等應(yīng)用；或用于泛光束，用于電荷中和、電子束洗滌、空間模擬和輻射損傷研究。

ELG-2 / EGPS-1022

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